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全自動(dòng)等離子活化設(shè)備

CRF-APO- 500W-XN

全自動(dòng)等離子體清洗機(jī)應(yīng)用于FPC&PCB表面處理，復(fù)合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理；

專利設(shè)計(jì)的內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達(dá)10eV以上，材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

“清洗表層”是大氣等離子清洗機(jī)技術(shù)的關(guān)鍵，簡(jiǎn)易地說(shuō)清洗表層便是在待處理材料的表層打出成千上萬(wàn)人眼看不到的小孔，同時(shí)在表層產(chǎn)生一層新的氧化膜，這樣就可以增大了材料的表面積，間接提升了材料表層的黏附性、相溶性、浸潤(rùn)性、擴(kuò)散性等。并且這種特性非常好的運(yùn)用于手機(jī)、電視、微電子技術(shù)、半導(dǎo)體材料、汽車等領(lǐng)域，為很多公司解決了很多年未處理的難點(diǎn)。

等離子中加工處理存有著很多的混合氣體分子結(jié)構(gòu)、電子器件和離子外，還存有很多受激發(fā)的中性原子、原子團(tuán)氧自由基及等離子射出去的光束。等離子清潔是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基以及射出去的光束與被清潔外表的污染物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)分別出現(xiàn)活化反映而因此將污染物質(zhì)消除的全過(guò)程。